ASML

ASML

ASML (全稱: Advanced Semiconductor Material Lithography, 目前該全稱己不做為公司標識使用,公司的註冊標識為ASML Holding N.V),中文名稱為阿斯麥(中國大陸)、艾司摩爾(中國台灣)。是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備製造商之一,向全球複雜積體電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

公司簡介

總部位於荷蘭Veldhoven,歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。2010年,其全球淨銷售收入超過45億歐元。2011年,賣出222套機器 ,全球淨銷售收入56.51億歐元 ,淨利潤14.67億歐元。

ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工 ,其中固定員工7184 (歐洲4202 ,亞洲1538 , 美國1444 ),男女比例為9:1 。截止2011年,全球市場占有率75%。

ASML總部,荷蘭Veldhoven ASML總部,荷蘭Veldhoven

中國分公司地址:上海市張江高科技園區松濤路560號A棟17樓

產品服務

ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務,TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產效率最高,套用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商,都向ASML採購TWINSCAN機型,例如英特爾(Intel),三星(Samsung),海力士(Hynix),台積電(TSMC),中芯國際(SMIC)等。

ASML的產品線分為PAS系列,AT系列,XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源為高壓汞燈光源,現已停產,AT系列屬於老型號,多數已經停產。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列,為ArF和KrF雷射光源,XT系列是成熟的機型,分為乾式和沉浸式兩種,而NXT系列則是現在主推的高端機型,全部為沉浸式。

TWINSCAN系列 TWINSCAN系列

目前已經商用的最先進機型是Twinscan NXT 1950i,屬於沉浸式光刻機,用來生產關鍵尺度低於38納米的積體電路。

ASML正在加緊研製基於極紫外(EUV)光源的新型光刻機,型號定為NXE系列。如果量產成功,將成為劃時代的產品,有望將關鍵尺寸縮小至10nm以下,並且可以顯著提高積體電路質量。

技術前景

除了目前致力於開發的TWINSCAN平台外,ASML還在積極與IMEC, IBM等半導體公司合作,開發下一代光刻技術,比如EUV(極紫外線光刻),用於關鍵尺度在22納米甚至更低的積體電路製造。目前ASML已經向客戶遞交若干台EUV機型,用於研發和實驗。同時,基於傳統TWINSCAN平台的雙重曝光等新興技術,也在進一步成熟和研發過程當中。07年末三星(Samsung)宣布成功生產的36納米快閃記憶體,基於的便是雙重曝光技術。

市場份額

目前市場上提供量產商用的光刻機廠商有三家:ASML, 尼康(Nikon),佳能(Canon)。 根據2007年的統計數據,在中高端光刻機市場,ASML占據大約60%的市場份額。而最高端市場(例如沉浸式光刻機),ASML大約目前占據80%的市場份額。不過,競爭對手尼康也在奮力追趕,主要優勢在於相對較低的價格。

在中國

ASML一直致力於中國市場的拓展與合作,包括香港在內目前已經在北京,上海,深圳,無錫等地開設分公司,為客戶提供及時的服務和諮詢。隨著公司業務的擴大和中國半導體產業的發展,相信大連,成都,重慶,武漢等新興的半導體基地也會納入ASML的版圖之內。ASML有信心和中國半導體從業者一道,為技術創新和市場拓展開闢道路。目前ASML已經與浙江大學,大連理工大學,哈爾濱工業大學,上海交通大學等著名高等學府簽定獎學金及科研合作協定,為培養和吸引本地人才,做出自己的一份貢獻。

睿初科技

www.brion.com

ASML於07年正式完成對睿初(Brion)科技的收購,使之成為旗下重要一員。睿初科技是建立在美國矽谷的高科技公司,致力於計算光刻等方面的服務,用於檢測光刻缺陷及提出相應修正解決方案,在同行業中處於領跑位置。 睿初科技總部位於加州Santa Clara, 在中國地區總部位於深圳。

Cymer

ASML於2012年10月宣布收購Cymer公司,以加快EUV的研發進度。Cymer公司 是世界領先的準分子雷射源提供商,發明了如今半導體製造中最關鍵的光刻技術所需的深紫外(DUV)光源。產品主要特性是:頻寬窄,運行速度高,可靠性強。Cymer光源在批量生產符合特定規格的的世上最先進的半導體晶片時起著決定性的作用。

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